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PECVD

网站编辑:admin │ 发布时间:2018-06-26 

使用等离子增强化学气相沉积的方法在硅片表面制作一层氮化硅膜,增加硅片光吸收、对硅片进行H钝化及抗氧化、腐蚀、掩蔽金属离子等作用。